Substratreinigung
mittels nasschemischer Prozesse
(sauer, alkalisch) oder Plasmacleaning
Materialien: Wafer, Masken, optische Substrate, Sonderformen
Beispiel
Optische Gitterstrukturen
Die Reinheit von Substraten nach der mechanischen Bearbeitung ist häufig nicht ausreichend für eine sachgerechte Weiterverarbeitung im Bereich der optischen Beschichtung und Mikrostrukturierung. Hierfür wurden im Unternehmen spezielle Reinigungsverfahren entwickelt.
