Durch die Anordnung von unterschiedlichen Filterelementen mit definierten spektralen Eigenschaften auf einem Chip ist eine wesentliche Optimierung des damit zu kombinierenden Auswertesystems erreichbar, d.h. wurden bisher je Spektrum eine Auswerteoptik benötigt, so reduziert sich deren Zahl auf eine Optik mit diesem Filter in der Fokalebene.


Know-How

Durch Kombination von Herstellungsverfahren für optische Schichten mit fotolithografischen Technologien konnten bessere Resultate als bei allen herkömmlichen Verfahren erreicht werden. Es verbinden sich hierbei die Vorteile einer kalten Beschichtung und die Kantenqualität fotolithografischer Masken.


Anwendung

Ziel ist ein satellitengestützter Einsatz, bei dem durch Oberflächenscanning von Planeten Aussagen zur Materialart anhand der ausgesandten Strahlung getroffen werden können.